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?半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各類電子器件、微電子工業(yè)、集成電路需用的高純水(含鹽量在0.3mg/L以下,電導(dǎo)率小于0.2μs/cm的水)、超純水(水中導(dǎo)電介質(zhì)、膠體物質(zhì)、無機(jī)物等 簡(jiǎn)直全部往除的水)清洗半制品、制品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的請(qǐng)求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技巧分為五個(gè)行業(yè)尺度，分辨為 18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm...

?采用離子交換樹脂(用化學(xué)法將高分子共聚物制成的無機(jī)單體顆粒的離子交換劑)(普通也稱離子交換樹脂(用化學(xué)法將高分子共聚物制成的無機(jī)單體顆粒的離子交 換劑))(用化學(xué)法將高分子共聚物制成的無機(jī)單體顆粒的離子交換劑)(又稱離子交換劑)制備超純水(水中導(dǎo)電介質(zhì)、膠體物質(zhì)、無機(jī)物等簡(jiǎn)直全部往除的水) 的傳統(tǒng)水處理(經(jīng)由過程物化方法往除水中一些物質(zhì)的過程)方法

?電子工業(yè)超純水(水中導(dǎo)電介質(zhì)、膠體物質(zhì)、無機(jī)物等全部去除的水)處理(經(jīng)由過程物化方法往除水中一些物質(zhì)的過程)設(shè)備 采用兩級(jí)反滲透主機(jī)加EDI純水系統(tǒng)(電阻率請(qǐng)求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超純水)(電往離子(又稱填充床電滲析EDI純水系統(tǒng)(電阻率請(qǐng)求 在1-18.2MΩ.cm(25℃)的超純水)/CDI純水設(shè)備(實(shí)用于制備電阻率請(qǐng)求很高的純水系統(tǒng)))(Electrodeionizatio...

?隨著現(xiàn)代工業(yè)科技的發(fā)展，對(duì)于環(huán)保的要求也隨之越來越高。傳統(tǒng)的去離子水高純水裝置均采用混合離子交換混床來做。由于其使用一段時(shí)間之后需用到鹽酸及氫氧化鈉做再生對(duì)環(huán)境造成一定的影響，排污能力也給企業(yè)造成很大的成本。

?EDI相對(duì)與混床具有如下的優(yōu)勢(shì)：無需再生化學(xué)品的再生；不需要中和池及中和的酸堿；地面和高空作業(yè)能夠極大地減少；所有的水處理系統(tǒng)操作都能夠在控制室內(nèi)完成 – 無需前往現(xiàn)場(chǎng)；減小了風(fēng)險(xiǎn)；連續(xù)工作，不是間歇操作，長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定的出水水質(zhì)；沒有廢棄樹脂污染排放的風(fēng)險(xiǎn)。

?被交換的離子受電性吸引作用，陽(yáng)離子穿過陽(yáng)離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過陰離子交換膜向陽(yáng)極遷移，并進(jìn)入濃水室從而從淡水中去除。